高科技領(lǐng)域正日益精密和復(fù)雜。對(duì)于LSI和LCD等產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中所需的嚴(yán)

格無(wú)塵環(huán)境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕松滿足時(shí)代需求，具有出色的功能，足以應(yīng)對(duì)超級(jí)無(wú)塵室中的極端無(wú)塵條件。

無(wú)塵室中所使用的擦拭布應(yīng)當(dāng)能夠清潔所有儀器、器械和外圍設(shè)備，同時(shí)不會(huì)造成污染。擦拭布還要能夠吸收并清除多余的水分。Savina MX具備此類擦拭布所需的所有屬性，是性能Z好的擦拭布之一，專為高科技時(shí)代而設(shè)計(jì)。

超級(jí)高收縮、高密度整理產(chǎn)品

 

                                                                   

                                                                              Savina MX的橫截面

                                                                   

                                                                              Savina MX的表面

Savina MX在專門(mén)的細(xì)針距針織機(jī)上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達(dá)到其原始尺寸的40%。它未經(jīng)任何粘合劑處理，就達(dá)到了這樣的致密結(jié)構(gòu)。所得擦拭布表面積高達(dá)25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g

特　色

• 掉毛量極少。
• 迅速而積極地吸收并留住水分。
• 殘留離子和其他物質(zhì)的溶解率較低。
• 具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量最大，同時(shí)不會(huì)污染無(wú)塵室設(shè)備）。

用　途

• 光磁盤(pán)、硬盤(pán)和軟盤(pán)的生產(chǎn)過(guò)程
• 液晶偏轉(zhuǎn)板以及其他物品的生產(chǎn)過(guò)程
• 光盤(pán)和磁盤(pán)的生產(chǎn)過(guò)程
• 錄像機(jī)的生產(chǎn)過(guò)程
• 隱形眼鏡的生產(chǎn)過(guò)程
• 相機(jī)裝配線
• 印刷電路板的清潔工藝
• 相機(jī)鏡頭鍍膜前的清潔工藝
• 藥品生產(chǎn)線清潔工藝
• 電Y膠片清潔工藝
• 半導(dǎo)體和基礎(chǔ)電路的生產(chǎn)過(guò)程
• 精密涂層之前工件的清潔過(guò)程

規(guī)格/包裝：24cm x 24cm   10片/小包    100片/大包

                     15cm x 15cm   100片/小包   200片/大包

15cm x 15cm   100片/小包   200片/大包

24cm x 24cm   10片/小包    100片/大包